年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮（Stikstof Trifluoride），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域.
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体㝿峚显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刺⽓当刺⽌当清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼎睰兏热应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和掂

Nitrogen trifluoride, gemyske formule NF3, is in sterk oksidearjend agint. As in wichtich yndustrieel spesjaal gas hat it in breed oanbod fan tapassingen.
Yn 'e mikro-elektroanyske yndustry is stikstoftrifluoride in poerbêst plasma-etsgas; Yn de semiconductor chip, platte paniel display, optyske fibre, fotovoltaïsche sellen en oare manufacturing fjilden, stikstof trifluoride wurdt benammen brûkt as plasma-ets gas en reaksje holte skjinmeitsjen agent.
It kin ek brûkt wurde yn gemyske lasers mei hege enerzjy om har tapassing te berikken troch te reagearjen mei wetterstof om yn in momint in grutte hoemannichte waarmte út te stjoeren. Nitrogen trifluoride wurdt ek brûkt as in hege-enerzjy brânstof en as in oxidizer en driuwfearren yn raket lansearringen.